BERLIN, 18. Mai 2026 /PRNewswire/ -- Die deutsche Lasergravurbranche setzt zunehmend auf intelligentere Fertigungswerkzeuge, da die Nachfrage nach Anwendungen für präzises Gravieren, Schneiden und Markieren steigt. Um Unternehmen von Kreativwerkstätten bis hin zu industriellen Herstellern zu unterstützen, erweitert Monport sein Lasertechnik-Portfolio um Desktop-CO2-Laser, Faserlaser in Industriequalität sowie neue UV-Laserlösungen.
Die Erweiterung spiegelt den wachsenden Bedarf an vielseitigen Lasergraviermaschinen wider, die von detailreichen Gravuren bis hin zu professionellen Arbeitsabläufen beim Laserschneiden für unterschiedliche Materialien geeignet sind.
An der Spitze der Desktop-CO2-Lasermaschinen des Unternehmens steht der Monport Mega S, eine weiterentwickelte Version der CO2-Lasermaschine Mega 70 W. Das auf Produktivität und Benutzerfreundlichkeit ausgelegte System unterstützt jetzt eine externe LightBurn-Anbindung und verfügt über ein LiDAR-basiertes Autofokussystem, das den Fokus für präzise Gravuren bei Geschwindigkeiten von bis zu 600 mm/s automatisch einstellt.
Der Monport Mega S verfügt außerdem über eine visuelle Einrichtung des Strahlengangs in fünf Minuten, einen 700 x 350 mm großen Arbeitsbereich, intelligente Fülltechnologie und eine integrierte Panoramakamera, um effiziente Laserschneid- sowie Seriengravurprojekte zu unterstützen.
Mit dem GT 200 W Split MOPA Autofocus Fiber Laser Engraver verstärkt Monport auch sein industrielles Faserlaser-Sortiment. Die auf Grundlage von Kundenfeedback entwickelte GT-Serie bietet gegenüber der GPro-Serie erweiterte Funktionen und schnelleres Arbeiten, eine verbesserte Wärmeableitung sowie präzise 3D-Tiefengravuren für Anwendungen in der Metallbearbeitung.
Der GT 200 W Faserlaser unterstützt Schwarzmarkierungen auf Aluminium, Farbgravuren auf Metall und das Schneiden dünner Metalle bis zu einer Stärke von 3 mm. Ein verbesserter Autofokus sowie eine Präzisionsoptik sorgen für sauberere und gleichmäßigere Gravurergebnisse.
Neben CO2- und Faserlasertechnologie erweitert Monport sein Angebot um UV-Lasermarkierung, die für Kaltmarkierungen ausgelegt ist. Die UV-Lasertechnologie minimiert die Wärmeeinwirkung auf empfindliche Materialien wie Kunststoffe, Glas sowie elektronische Bauteile und trägt dazu bei, Materialverformungen zu verringern und zugleich eine präzise Gravurqualität zu gewährleisten.
Da die deutsche Fertigungs- und Kreativbranche weiterhin in moderne Laserlösungen investiert, macht das umfassende Ökosystem von Monport den Wandel der Branche hin zu intelligenteren, anpassungsfähigeren Lasertechnologien für Gravur- und Laserschneidanwendungen deutlich.
„Unser Ziel ist es, fortschrittliche Lasertechnologie für Unternehmen jeder Größe zugänglicher, effizienter und praxistauglicher zu machen", sagte der Geschäftsführer von Monport.
Weitere Informationen zur fortschrittlichen Lasergravurlösung von Monport finden Sie auf der offiziellen Website von Monport Laser.
Medienkontakt:
Monport Laser
Kontakt-E-Mail: support@monportlaser.de
Website: https://www.monportlaser.de/
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In Thüringen ist ein großangelegtes Forschungsprojekt zur nächsten Generation der Nanostrukturierung gestartet. Wissenschaftlerinnen und Wissenschaftler der Technischen Universität Ilmenau, der Friedrich-Schiller-Universität Jena und des Fraunhofer-Instituts für Angewandte Optik und Feinmechanik (IOF) in Jena entwickeln gemeinsam eine Hochpräzisionsmaschine, die Nanostrukturen auf Flächen von bis zu einem Quadratmeter erzeugen und vermessen soll. Die geplante 3D-Nanolithographie- und Nanomessmaschine (3D-NLM) soll dabei eine Positionierungsgenauigkeit erreichen, die kleiner ist als ein Atom. Die Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) unterstützt die erste Projektphase bis 2027 im Rahmen des Programms „Neue Geräte für die Forschung“ mit vier Millionen Euro.
Mit dem Vorhaben zielt das Konsortium auf eine Größenordnung, die bestehende Anlagen deutlich übertrifft. Bisher lassen sich hochpräzise Nanostrukturen auf photonischen Bauteilen nach Angaben der Projektbeteiligten nur bis zu einem Durchmesser von etwa 30 Zentimetern zuverlässig herstellen. Die neue Anlage soll Bearbeitungen und Messungen von Bauteilen mit Kantenlängen von bis zu einem Meter ermöglichen – und damit eine mehr als dreifache Vergrößerung der nutzbaren Fläche erschließen. Die Entwicklungsarbeiten an der Maschine sind angelaufen; das Gesamtprojekt ist in drei Phasen bis 2032 angelegt.
Nanostrukturen gelten seit rund zwei Jahrzehnten als Schlüsseltechnologie, weil sie Licht gezielt beeinflussen können, indem sie dessen Wellenlänge und Ausbreitung steuern. Solche Strukturen finden sich bereits heute in großflächigen Bauteilen, etwa in Displays moderner Fernsehgeräte, die auf Nanotechnologie basieren. Nach Einschätzung der Forscherinnen und Forscher reicht die Genauigkeit bestehender industrieller Lösungen jedoch nicht aus, um künftige Anforderungen in zentralen wissenschaftlichen und technologischen Anwendungsfeldern zu erfüllen.
Die in Thüringen entstehende 3D-NLM soll genau diese Lücke adressieren. Perspektivisch könnte die Maschine zur Fertigung und Charakterisierung elektronischer und photonischer Schaltkreise ebenso eingesetzt werden wie zur Herstellung von Hochleistungsoptiken für die Erdbeobachtung. Auch in der Energieforschung sehen die Projektpartner potenzielle Einsatzfelder. Durch die Kombination aus großflächiger Bearbeitung und atomnaher Präzision erhoffen sich die Beteiligten einen technologischen Sprung, der sowohl der Grundlagenforschung als auch der Entwicklung neuer Komponenten in der Optik- und Elektronikindustrie zugutekommen könnte.
